硅溶膠是納米二氧化硅顆粒的分散體，具有良好的球形度和適當(dāng)?shù)挠捕龋梢源蟠鬁p少拋光過(guò)程中器件上的劃，所以硅溶膠可以作為拋光液的關(guān)鍵原料。根據(jù)目前的制造技術(shù)，硅溶膠中納米二氧化硅顆粒的直徑可以控制在10-150納米的范圍內(nèi)，不同粒徑的硅溶膠會(huì)產(chǎn)生不同的去除率，這為芯片制造的平面化工藝提供了多種選擇。
研磨漿是另一種“研磨工具”，它不同于固結(jié)的研磨工具，并涂有研磨工具。研磨劑均勻自由地分布在分散劑中。研磨拋光液可分為研磨液和拋光液。普通磨削液用于粗磨，拋光液用于精磨。拋光液通常用于磨削液的下一道工序，在工業(yè)上也被稱為拋光液或拋光液。
磨削液根據(jù)其作用機(jī)理分為機(jī)械磨削液和化學(xué)機(jī)械磨削液。具有機(jī)械作用的磨削液:以金剛石和B4C為磨削材料，通過(guò)加入分散劑分散到液體介質(zhì)中，形成磨削液，稱為金剛石磨削液和碳化硼磨削液。
磨料在分散體中自由分布，工件的研磨和減薄可以通過(guò)應(yīng)用磨料的硬度大于待研磨工件的硬度的原理來(lái)完成。根據(jù)磨料的表面、粒度、磨削液的配置、磨削設(shè)備的穩(wěn)定性等，工件表面磨削后很容易留下大大小小的劃痕。因此，具有機(jī)械作用的磨削液通常用于粗磨，然后需要精確的磨削和拋光。
化學(xué)機(jī)械磨削液:化學(xué)機(jī)械磨削液在磨損中運(yùn)用“軟磨硬磨”的原理，即停止用較軟的材料拋光，以完成高質(zhì)量的拋光表面。它是機(jī)械研磨和化學(xué)腐蝕相結(jié)合的技術(shù)，通過(guò)超細(xì)顆粒的研磨作用和化學(xué)腐蝕，在研磨介質(zhì)表面形成光亮平整的表面。